技術紹介

アイデアはあるけどそれをカタチにする方法が分からない。そんなあなたにその方法を指導いたします。

卒業後は自信をもって私が製造方法を担当します！と言えるようになるでしょう。


本研究室では以下の技術の修得が可能です。

• マイクロマシン（MEMS）製造工程

・　フォトリソグラフィ （マスク設計、洗浄、スピンコート、露光、現像）　
・　湿式エッチング （各種金属、ガラス、シリコン）
・　電解めっき （Ni, Cu, Sn, Au, Zn などが実績のある金属、その他にPTFE分散めっき)
・　金属製膜 （蒸着、スパッタリング）
・　ドライエッチング （シリコン、ガラス、水晶、セラミックス、各種ポリマーなど）
・　表面活性化処理 （PDMS、テフロン、アクリル、ポリカーボネートなど）
・　ポリッシング
・　ドライエッチングによる立体形状転写
・　PDMSを用いた微小流路作製
・　簡易NC加工装置の扱い
・　フォトマスク作製装置の作り方

• プラズマ装置の作り方

・　真空装置の設計
・　ドライエッチング装置
・　スパッタリング装置
・　化学気相堆積（CVD)装置
・　装置不良の原因

• センサと収録データの処理システム

・　センサ設計ルール
・　センサ駆動回路
・　コンセントから電源をとる装置の作り方
・　データ集録
・　プログラミングによるユーザーインターフェース
・　センサ評価技術

• 表面物性の評価方法

・　表面界面における現象の考察方法
・　赤外分光（FTIR-RAS、ATR）による表面の化学構造の分析
・　濡れ性の評価方法
・　粘弾性の評価方法