研究設備
Copyright (c) 2011-2014 Abe-Sohgawa Laboratory, Niigata University
| 実験室（110、111、112室） | |
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主な製造装置 |
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| 抵抗加熱型蒸着装置 用途：電極材料である金、クロムの蒸着 |
ホットエンボス装置 用途：熱プレス |
恒温槽 用途：レジストやPDMSの熱処理 |
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| 多目的ドライエッチャー 用途：ガラス、水晶のDRIE、ポリマーの表面処理 |
スピンコーター 用途：レジスト、光触媒膜の 形成 |
超純水製造装置 用途：NEMSプロセス用の純水提供 |
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| 小型NC加工装置 用途：プラスチック、セラミックスの加工 |
露光装置 用途：フォトリソグラフィ |
スパッタリング装置 用途：電極・ひずみゲージ用金属薄膜及び誘電体薄膜の成膜 |
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| ダイヤモンドソー 用途：ウエハの裁断 |
アッシャー 用途：レジストの残渣の除去、PDMS表面の活性化 |
チューブ炉 用途：高濃度ガス雰囲気中での熱処理 |
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| ボックス炉 用途：薄膜の高温熱処理 |
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評価分析装置 |
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| フーリエ変換赤外分光法装置 用途：表面処理プロセスの評価 |
ネットワークアナライザ 用途：センサの評価 |
デジタルオシロスコープ 用途：電圧信号波形の測定 |
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| LCRメータ 用途：電気インピーダンスの測定 |
マルチメータ 用途：電圧、電流、抵抗等の電気的特定評価 |
マニピュレータ 用途：微小構造に変位を与えたり、力を加える |
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| マイクロプローバー 用途：微小電極の電気的特性の評価 |
データ集録システム 用途：多数の電気信号の測定、記録 |
超音波ワイヤボンダ 用途：電極と基板上の配線の接続 |
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| 光学実体顕微鏡 用途：微細パターンや物体表面の観察 |
ドラフトチャンバー 用途：試料の洗浄、メッキ、エッチング等で使用する薬品の取り扱い |
段差計 用途：測定物の表面の凹凸の評価 |